폴텍(주)

엘립소미터

Thin Film 두께 측정 (Multi-Wavelength Ellipsometer)

4개 또는 6개의 파장을 사용함.
Single-wavelength(단파장) 엘립소미터와 비슷한 저렴한 가격으로 SE(spectroscopic ellipsometer)의 성능을 가지고 있음

Ex-situ 또는 In-situ 방식으로 conversion 용이함.
박막 증착 장비에 탑재하여 In-situ 방식으로 공정 실시간 박막 두께 측정 가능

LED 광원 사용(5만 시간 이상 사용 가능) → 램프 교체 필요 없음.
Detector가 고정되어 있음 → 빠른 측정 가능(10ms), 부품교체 없이 장기간 사용 가능
탁월한 측정 재현성(precision) : 최고 0.001nm 수준
Analysis(분석) 프로그램이 시스템에 내장되어 있기 때문에, 별도의 프로그램 설치가 필요 없음
Wafer mapping system (추가적인 기능)

Multi-Wavelength Ellipsometers

FS-1 ™
FS-1EX ™

● FS-1™

- 4개의 파장 사용 : Blue(450nm), Green(525nm), Yellow(595nm), Red(660nm)

- 0~1µm 박막 두께 측정 가능. 투명한 박막의 경우 0~2µm 두께 측정 가능

- 65° 입사각, 샘플 크기는 최대 200mm diameter 및 23mm 두께까지 가능

- 샘플 위의 Beam size : 5x12mm

- Compact footprint (180 x 400mm) 및 가벼운 무게 (4.8 kg)

● FS-1EX

- 6개의 파장 사용 : 405~950 nm

- 0~3µm 박막 두께 측정 가능. 투명한 박막의 경우 0~5µm 두께 측정 가능

- 65° 입사각, 샘플 크기는 최대 200mm diameter 및 23mm 두께까지 가능

- 샘플 위의 Beam size : 5x12mm

- Compact footprint (180 x 400mm) 및 가벼운 무게 (4.8 kg)

< 적용 분야 >

- 반도체 분야: silicon oxide and nitrides, high and low k dielectrics, amorphous, and polycrystalline silicon films, photoresists

- 광학 코팅 분야: high and low index films such as SiO2, TiO2, Ta2O5, MgF2, etc.

- 디스플레이 분야: TCO’s (such as ITO), amorphous silicon films, organic films (for OLED technology)

- 데이터 저장 장치 분야: diamond like carbon films

- R&D 공정 분야: in situ characterization of film deposition(rate and optical constants) vs. process conditions, applicable to MBE, MOCVD, ALD, Sputtering, etc.

- 화학 및 생물학 분야: detection of sub-monolayer material adsorption in liquid cell experiments

- 공학 분야: in-line monitoring and control of film thickness